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　　據(jù)介紹，近年來(lái)，aZIF薄膜被用作先進(jìn)光刻膠。實(shí)現(xiàn)aZIF薄膜的大面積、高精度可控制備，對(duì)相關(guān)領(lǐng)域的先進(jìn)光刻工藝具有重要意義。

　　在前期基于超稀釋前驅(qū)體溶液賦能化學(xué)液相沉積法制備aZIF薄膜策略的基礎(chǔ)上，研究團(tuán)隊(duì)提出了制備aZIF薄膜的新方法。經(jīng)過(guò)系列實(shí)驗(yàn)和仿真，研究團(tuán)隊(duì)得到了薄膜沉積的本征速率，并揭示了薄膜沉積均勻性的關(guān)鍵影響因素。

　　研究團(tuán)隊(duì)利用該化學(xué)液相沉積方法，制備了鋅/2-甲基咪唑，鋅/苯并咪唑、鋅/4,5-二氯咪唑和鈷/2-甲基咪唑等多種aZIF薄膜，并對(duì)aZIF薄膜作為正型光刻膠和負(fù)型光刻膠的圖案化性能進(jìn)行了測(cè)試。他們還驗(yàn)證了aZIF薄膜作為光刻膠在下一代光刻技術(shù)中應(yīng)用的可行性。