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　　在現代半導體芯片的先進制程中，晶體管尺寸已經達到了納米級別，比大多數污染顆粒還要小，任何金屬離子、微粒或化這物質進入晶圓表面，都可能會導致短路或斷路，影響電流流動，或者蝕刻不均勻，導致電路結構異常，或者晶體缺陷，影響芯片壽命。芯片制程越小，芯片越先進。芯片越先進，制造工藝中各維度的純凈性要求越高，關鍵工藝對高純材料的依賴就越高。高純氣體、高純水、高純濕電子化學品都需要高純PFA管路進行輸送。高純PFA管路系統是半導體制造過程中不可或缺的重要組成部分，能有效減少污染，提高芯片良率。在先進制程不斷發展的背景下，高純PFA管道的重要性將愈發突出，并成為提升半導體生產效率和質量的關鍵保障。

　　中國在先進制程芯片(如14nm、10nm、7nm、5nm、3nm及以下)制造方面，面臨諸多技術難點和挑戰。至2024年底，中國大陸地區半導體行業生產用設備、材料、關鍵零部件等整體國產化率不足23%。長期以來，國內先進制程所需的高純PFA管路主要依靠進口。為了實現解決高純PFA管路卡脖子的問題，實現國產化，ALFA攜手科慕，采用科慕頂級951HP Plus PFA原料制成高純PFA管路，通過了SGS實驗室 SEMI F57測試，滿足半導體先進制程的需求，在輸送液態工藝用化學品、清洗液、蝕刻液等超純化學品方面表現卓越。

　　ALFA董事長孟凡新在發布會上表示：“在半導體產業邁向更高精度、更先進制程的征程中，我們推出了半導體級高純PFA管路系統。我們與全球材料科學領軍者科慕公司深度合作，采用科慕頂級951HP Plus PFA原料，使得ALFA高純PFA管性能獲得了革命性的提升。我們將以技術為引領，樹立行業新標桿，讓管路與未來同行，為中國的科技創新之路貢獻力量。”

　　ALFA高純PFA管路被譽為半導體產線的“黃金血管”，實現了純度等級突破：金屬離子析出量低于0.1ppb，達到SEMI F57國際標準，確保晶圓制造全程“零污染”。耐腐蝕性升級：可耐受強酸、強堿及有機溶劑，在180℃高溫下性能穩定，壽命較傳統產品提升3倍 。柔性設計優化：內壁光滑無死角，彎曲半徑縮小30%，適配精密設備復雜管路布局需求。