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　　該產品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于國外同系列產品UV1610，該產品在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120納米，且工藝寬容度更大、穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀。其對后道刻蝕工藝表現更為友好，通過驗證發現該產品中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。

　　據悉，該公司成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。團隊立足于關鍵光刻膠底層技術研發，致力于半導體專用高端電子化學品材料的開發，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同時為材料的分析與驗證提供最全面的手段。