材料簡介
不同類型半導體材料的性能對比
應用領域 電力電子(無線充電、快速充電)、微波射頻、半導體照明…
發展趨勢 1.電力電子領域:
行業發展目標 根據《重點新材料首批次應用示范指導目錄(2018 版)》中提出,對于氮化鎵單晶襯底,包括 2 英寸及以上 GaN 單晶襯底,需滿足位錯密度< 5×10 6cm-2 ,半絕緣 GaN 電阻率> 106 Ω· cm;對于功率器件用氮化鎵外延片,包括 4 英寸及以上氮化鎵外延片,需滿足背景載流子濃度 <>16cm-3 ,翹曲小于 50μm,遷移率>600cm2/vs
市場規模預測 據 Research and Markets 預測,到 2023 年全球氮化鎵器件市場規模將達 224.7 億美元。
主要研究單位 / 公司
應用案例 微波器件: GaN 具有高的電子遷移率、高的飽和速度和較低的介電常數,是制作微波器件的優質材料。 光電器件: GaN 及其合金的帶隙覆蓋了從紅色到紫外的光譜范圍,是一種理想的短波長發光器件材料。
充電器件: GaN 器件是目前最快的功率開關器件,并且可以在高速開關的情況下仍保持高效率水平,能夠應用于更小的元件,應用于充電器時可以有效縮小產品尺寸。 |