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10nm以下最強(qiáng)候選 中國(guó)半導(dǎo)體性單壁碳納米管獲突破
文章來(lái)源:快科技     更新時(shí)間:2023-04-18 16:32:45
快科技4月13日消息,當(dāng)前的硅基半導(dǎo)體芯片在10nm工藝之后面臨更大的困難,學(xué)術(shù)界一直在研發(fā)碳基芯片取代硅基芯片,碳納米管被稱為10nm以下最強(qiáng)候選,我國(guó)科學(xué)家在半導(dǎo)體性單壁碳納米管研究上獲得突破。

中國(guó)科學(xué)報(bào)援引西北工業(yè)大學(xué)材料學(xué)院消息,該校教授趙廷凱團(tuán)隊(duì)對(duì)半導(dǎo)體性單壁碳納米管的可控制備進(jìn)行深入研究,提出一種新的多循環(huán)生長(zhǎng)工藝,選擇性合成的半導(dǎo)體性單壁碳納米管豐度高達(dá)93.2%,產(chǎn)率從0.76%提高到1.34%,為大規(guī)模合成高純度半導(dǎo)體性單壁碳納米管提供了新方法。

相關(guān)研究成果《通過(guò)催化劑再生多循環(huán)工藝生長(zhǎng)高純度與高產(chǎn)率半導(dǎo)體性單壁碳納米管》正式發(fā)表于最新一期《化學(xué)工程》雜志。

傳統(tǒng)制備方法獲得的單壁碳納米管,通常是金屬性和半導(dǎo)體性單壁碳納米管的混合物,并難以分離,嚴(yán)重阻礙了其廣泛應(yīng)用。

西北工業(yè)大學(xué)運(yùn)用新工藝技術(shù),能夠成功實(shí)現(xiàn)高純度與高產(chǎn)率半導(dǎo)體性單壁碳納米管的可控制備。

該成果為大規(guī)模選擇性生長(zhǎng)高純度半導(dǎo)體性單壁碳納米管提供了有效手段和新思路,為半導(dǎo)體性單壁碳納米管在納米電子器件、信息通訊和生物醫(yī)藥等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用打下堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

據(jù)了解,半導(dǎo)體性單壁碳納米管具有原子級(jí)厚度、表面無(wú)懸鍵的準(zhǔn)一維管狀結(jié)構(gòu)和高電子遷移率等優(yōu)異電學(xué)性質(zhì),因而被視為10 nm以下高性能、低功耗場(chǎng)效應(yīng)晶體管溝道材料最有力候選。

單壁碳納米管已被廣泛應(yīng)用于許多電子器件,包括顯示器、存儲(chǔ)器、傳感器、透明導(dǎo)電薄膜以及碳納米管計(jì)算機(jī)等。

IBM的理論計(jì)算表明,若完全按照現(xiàn)有二維平面框架設(shè)計(jì),相比硅基技術(shù),碳管技術(shù)具備 15 代的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

另外,碳基材質(zhì)的特殊性,它能讓電路做到像創(chuàng)可貼一樣柔軟,半導(dǎo)體型單壁碳納米管有望在新一代柔性電子器件中獲得應(yīng)用。

10nm以下最強(qiáng)候選 中國(guó)半導(dǎo)體性單壁碳納米管獲突破

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